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產品詳情
  • 產品名稱:單靶射頻磁控濺射鍍膜儀

  • 產品型號:TN-MSP300S-RF
  • 產品廠商:泰諾
  • 產品文檔:
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簡單介紹:
單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。
詳情介紹:
TN-MSP300S-RF 單靶射頻磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配射頻電源,500W-1000W ,可用于非金屬膜、光學膜的濺射,根據實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現各種材料的鍍膜操作。

鍍膜儀具有一路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環(huán)境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制,在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

用途單靶射頻磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等。


產品名稱
單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)
產品型號
TN-MSP300S-RF
特點
  • 自主研發(fā)、高性價比
  • 標準2英寸磁控濺射頭
  • 射頻電源,非金屬膜、光學膜
  • 高精度質量流量計
  • 渦輪分子泵組,極限真空可達10E-5Pa
  • 一體機電腦操作
參數
  1. 1、樣品臺:尺寸φ150mm;  加熱溫度 maxtemp:500℃;控溫精度:±1℃;轉速:1-20rpm可調
  2. 2、磁控濺射頭:2” ×1 (1”,2”,3”可選)10L/min流速的循環(huán)水冷 
  3. 3、真空腔體:尺寸:φ300mm × 340mm 材料:不銹鋼、上頂開式, 觀察窗口:φ100mm
  4. 4、質量流量計:1路;量程200SCCM;Ar(可根據客戶需要定制多路氣路)
  5. 5、真空系統:分子泵系統,抽速600L/S
  6. 6、真空測量:復合真空計
  7. 7、濺射電源:射頻電源 ×1;max輸出功率 500W-1000W 可選
  8. 8、膜厚儀:石英振動薄膜測厚儀一臺,分辨率0.10 ?
  9. 9、操作方式:一體機電腦操作
規(guī)格
尺寸:1090mm × 900mm × 1250mm;重量:350kg ;電壓:AC220V,50Hz;功率:6KW


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